硅片拋光機加工過多，硅表面的化學腐蝕一般采用濕法腐蝕，硅表面腐蝕形成隨機分布的微小原電池，腐蝕電流較大，一般超過100A/cm2，但是出于對腐蝕液高純度和減少可能金屬離子污染的要求，目前主要使用氫氟酸（HF）,硝酸(HNO3)混合的酸性腐蝕液，以及氫氧化鉀(KOH)或氫氧化鈉（NaOH）等堿性腐蝕液�，F(xiàn)在主要用的是HNO3-HF腐蝕液和NaOH腐蝕液。

 

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